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深圳后浪實驗室長期聚焦于以等離子體物理為基礎的物理氣相沉積技術（高功率脈沖磁控濺射HiPIMS、常規濺射技術、陰極弧、離子注入、微弧氧化等）、核心裝備、等離子體模擬、涂層/薄膜材料與應用方面的研究。

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